一种利用外界压力调控限域空间的方法及在三维微纳结构构筑中的应用

AITNT
正文
推荐专利
一种利用外界压力调控限域空间的方法及在三维微纳结构构筑中的应用
申请号:CN202410716242
申请日期:2024-06-04
公开号:CN118723914A
公开日期:2024-10-01
类型:发明专利
摘要
本发明提供一种利用外界压力调控限域空间的方法及在三维微纳结构构筑中的应用。本发明通过微结构模板可以在气泡辅助组装过程中利用外部砝码施加均匀压力,以有效控制所得到图案的三维高度。本发明方法能够解决在微模板印刷过程中高度难以控制的问题,为后续微模板印刷的图案阵列的器件应用提供了更多的选择。
技术关键词
三维微纳结构 钙钛矿太阳能电池 纳米材料 微流体芯片 透明导电膜 阵列 模板 空穴传输层 基底 微结构 复合钙钛矿 结构单元 气泡 砝码 图案 网格 六边形 电子
添加客服微信openai178,进AITNT官方交流群
驱动智慧未来:提供一站式AI转型解决方案
沪ICP备2023015588号