一种示踪粒子模拟浇注控制方法

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一种示踪粒子模拟浇注控制方法
申请号:CN202410726900
申请日期:2024-06-06
公开号:CN118760061A
公开日期:2024-10-11
类型:发明专利
摘要
本发明涉及计算机模拟技术领域,具体为一种示踪粒子模拟浇注控制方法,方法包括:基于历史温度和压力数据,监控浇注参数中的实时环境参数,识别实时的温度和压力变化,得到实时环境参数结果,将所述实时环境参数结果进行浇注过程的环境适应性评估,得到环境响应评估结果。本发明中,通过实时监控环境参数并基于历史数据进行动态调节,实时监测温度和压力变化,与历史数据对比实现精准调整,减少环境波动引起的缺陷,引入环境响应评估和环境调整关联性分析,加强浇注过程理解,显著提高浇注质量,减少材料浪费,通过精细调控粒子行为,预防常见问题,减少试验次数和成本,加速产品开发周期,实现生产效率和产品性能的持续提高。
技术关键词
浇注控制方法 示踪粒子 动态控制参数 代表 因子 计算机模拟技术 指数 产品开发周期 数据分析模型 实时数据采集 机械 非线性特征 生成压力
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