轨迹分析系统及方法

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轨迹分析系统及方法
申请号:CN202410742780
申请日期:2024-06-11
公开号:CN118331170B
公开日期:2024-11-05
类型:发明专利
摘要
本申请公开了一种轨迹分析系统及方法,本申请涉及数据处理技术领域,该系统包括:数据处理模块和轨迹展示模块;数据处理模块,用于根据用户输入的目标运动参数确定目标伺服电机对应的目标运动位置;数据处理模块,还用于根据当前连接状态和目标运动位置确定目标分析数据,并将目标分析数据发送至轨迹展示模块;轨迹展示模块,用于根据目标分析数据生成目标数控加工轨迹,并通过目标机床模型对目标数控加工轨迹进行可视化展示。本申请可基于用户输入的目标运动参数和当前连接状态确定目标分析数据,再基于目标分析数据进行轨迹可视化展示,从而使用户根据可视化的目标数控加工轨迹预防机床运行异常,避免加工过程中的错误,提高数控加工安全性。
技术关键词
数据处理模块 轨迹分析系统 绘图模块 伺服电机 轨迹分析方法 运动 机床 输出预警信息 参数 轨迹可视化 端点 模型库 刀具 数据处理技术 周期 在线
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