一种改善小间距断节金手指渗镀的制作方法及系统

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一种改善小间距断节金手指渗镀的制作方法及系统
申请号:CN202410745666
申请日期:2024-06-11
公开号:CN118785627A
公开日期:2024-10-15
类型:发明专利
摘要
本发明属于印制电路板技术领域,公开了一种改善小间距断节金手指渗镀的制作方法及系统。该方法包括:前工序、丝印湿膜、曝光、显影、电镀金手指、退膜、蚀刻、后工序,在曝光步骤中,在断节金手指之间设计一个十字型的开窗,解决小间距附着力不足的问题。本发明通过改变断节金手指制作的开窗模式,由传统的一字型开窗,设计成在金手指之间增加十字架设计,增加湿膜的附着力,解决小间距短路问题。相比于现有技术,本发明通过重新定义设计,有效解决了断节金手指短路问题,提升合格率,在光模块领域的断节金手指产品,更具有竞争力。
技术关键词
数据缓存结构 重构 电镀金手指 间距 异常点 噪声 印制电路板技术 位置更新 机制 坐标 蚀刻 轨迹点数据 表达式 线方法 学习算法 模块 非监督
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