基于温度场自动检测并消除沉积层冶金缺陷的装置及方法

AITNT
正文
推荐专利
基于温度场自动检测并消除沉积层冶金缺陷的装置及方法
申请号:CN202410750832
申请日期:2024-06-12
公开号:CN118720170A
公开日期:2024-10-01
类型:发明专利
摘要
本发明涉及激光沉积生产工艺技术领域,特指基于温度场自动检测并消除沉积层冶金缺陷的装置及方法。本发明采用旁轴设置的红外相机获取定向能量沉积过程中熔池图像,实现实时监测熔池温度场的目的。根据红外相机接收工件传输的热反馈获得工件的热成像图,设置温度阈值,根据异常温度场的位置及大小判断工件是否产生缺陷,并将采集到的温度数据反馈至质量数据库,采用PID算法调控工艺参数,将调控过的工艺参数信息反馈至定向能量沉积系统,从而达到抑制激光沉积过程中缺陷的产生与生长的目的,可以有效提高激光沉积工件的机械性能。
技术关键词
定向能量沉积 红外相机 PID闭环控制 激光光斑直径 水冷接口 冶金 散热保护电路 PID算法 运动机构 工件 控制系统 图像校正方法 调节工艺参数 梯度温度场 二维温度场 边缘检测算子 USB传输 平台
添加客服微信openai178,进AITNT官方交流群
驱动智慧未来:提供一站式AI转型解决方案
沪ICP备2023015588号