一种离子束沉积装置自清洁优化方法及系统

本发明公开了一种离子束沉积装置自清洁优化方法及系统，涉及薄膜沉积和材料改性技术领域，旨在通过自动化和智能化的手段，对离子束沉积装置进行定期或实时的清洁，以去除沉积过程中产生的杂质和污染物；通过集成在离子束沉积装置内的传感器，实时监测沉积室内的温度、压力、离子束强度等关键参数，以及沉积层的表面状态；利用先进的数据分析算法，对实时监测数据进行处理和分析，以预测杂质积累的趋势和位置，基于数据分析结果，自动制定个性化的自清洁策略，通过控制系统自动执行自清洁策略，无需人工干预。同时，系统还可以记录清洁过程中的数据，用于后续的分析和优化离子束沉积装置在半导体制造、材料科学等领域具有广泛应用。