一种考虑磁导率和厚度的铁磁边界内双平面线圈设计方法

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一种考虑磁导率和厚度的铁磁边界内双平面线圈设计方法
申请号:CN202410767127
申请日期:2024-06-14
公开号:CN118468727A
公开日期:2024-08-09
类型:发明专利
摘要
本发明公开一种考虑磁导率和厚度的铁磁边界内双平面线圈设计方法,包括:S1.确定双平面线圈的尺寸,立方体磁屏蔽室的尺寸、磁导率和厚度。S2.选定目标区域,在目标区域设置NUM个目标点,并根据线圈类型对每个目标场点设置相应的均匀磁场或梯度磁场;S3.计算镜像线圈和原线圈的电流密度,计算多重反射线圈的电流密度,推导各目标点磁场表达式,与电流密度函数之间构建矩阵方程;S4.计算线圈流函数中的待定系数;S5.通过流函数计算得到平面电流分布,利用等高线方式进行离散,从而得到具体的线圈结构,进行磁场均匀度计算并通过线性递减权重粒子群优化算法寻找最优的正则系数,得到性能满足要求的线圈构型。
技术关键词
双平面线圈 匀场线圈 粒子群优化算法 镜像 梯度线圈 线圈结构 表达式 磁屏蔽 梯度磁场 均匀磁场 轴对称 平面镜 电流 立方体 幅值 方程 线圈阵列 矩阵
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