一种波导与锗探测器集成芯片及其制造工艺

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正文
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一种波导与锗探测器集成芯片及其制造工艺
申请号:CN202410785577
申请日期:2024-06-18
公开号:CN118538795A
公开日期:2024-08-23
类型:发明专利
摘要
本发明适用于芯片技术领域,提供了一种波导与锗探测器集成芯片及其制造工艺,所述集成芯片包括锗探测器和与之集成的氮化硅波导,所述锗探测器相对的两侧均形成有金属盘,所述锗探测器通过金属与一个金属盘连接,所述金属与锗探测器之间形成有接触孔,另一个金属盘上形成有接触孔,本发明采用的材料形成的波导,具备足够低的传输损耗,可以设计足够的长度来满足相干信号延迟的要求,本发明将氮化硅波导和锗探测器无缝集成在单个芯片上,制造出一体集成并且耦合损耗很低的FMCW Lidar芯片。
技术关键词
集成芯片 锗探测器 光刻胶 波导 金属盘 外延 接触孔 衬底 刻蚀掩膜 二氧化硅介质层 氮化硅 金属走线 机械抛光 层沉积 上沉积 损耗 离子
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