一种自适应点云多曲线轮廓点线性增长光顺规则化方法

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正文
推荐专利
一种自适应点云多曲线轮廓点线性增长光顺规则化方法
申请号:CN202410805727
申请日期:2024-06-21
公开号:CN118379392B
公开日期:2024-09-27
类型:发明专利
摘要
本发明涉及点云数据处理技术领域,尤其涉及一种自适应点云多曲线轮廓点线性增长光顺规则化方法,包括如下步骤:步骤1、构建整体LSM的空间直线拟合参数方程、基于几何特征分析的二次曲线拟合参数方程及空间圆曲线拟合参数方程,从而建立轮廓点到多曲线的最短距离约束条件,即多曲线参数方程;步骤2、基于上述约束条件,构建轮廓点线性增长算法,得到轮廓点的线性增长集合。本发明对线形轮廓点进行分析依据轮廓点到多曲线最短距离的约束条件,构建轮廓点线性增长算法,实现轮廓点的线性增长集合,对每个线性增长集合点云进行多曲线拟合得到轮廓特征点的规则化,提高规整度。
技术关键词
轮廓特征 规则化方法 曲线轮廓 线性 方程 短距离 直线 参数 线状 坐标 点云数据处理技术 区域增长算法 矩阵 搜索算法 节点 特征值 特征点
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