基于微量添加示踪粒子的材料局部比容分布测定方法

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基于微量添加示踪粒子的材料局部比容分布测定方法
申请号:CN202410809256
申请日期:2024-06-21
公开号:CN118817531A
公开日期:2024-10-22
类型:发明专利
摘要
本发明涉及一种基于微量添加示踪粒子的材料局部比容分布测定方法,属于材料测试领域。所述方法包括示踪粒子与基体材料均匀混配、标准样品制备、局部取样切片、标准切片比容测定、切片内示踪粒子显微观测与图像识别处理、粒子统计数据与局部切片比容数据关联模型建立、模型应用:成型制品、制品形状及内部粒子分布扫描、制品内部粒子分布统计数据模型还原制品比容分布,所述示踪粒子微量不影响材料的基本性质且无团聚,所述粒子统计数据与局部切片比容数据模型为线性模型即粒子占据面积与比容值呈正比。可实现高分子材料制品局部比容分布的测定;材料种类不受限制,可以是纯高分子材料,也可以是高分子复合材料;局部比容测定精度高。
技术关键词
示踪粒子 分布测定方法 切片 混合粒料 打磨抛光设备 混合材料 制品形状 X射线计算机断层扫描 热加工设备 密度测定设备 高分子材料制品 成型制品 金相研磨机 图像识别软件 材料粉碎机 粉碎设备 混合设备
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沪ICP备2023015588号