一种硅基液晶器件相位调制方法、设备、介质及产品

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一种硅基液晶器件相位调制方法、设备、介质及产品
申请号:CN202410824445
申请日期:2024-06-24
公开号:CN118567017B
公开日期:2025-11-28
类型:发明专利
摘要
本申请公开了一种硅基液晶器件相位调制方法、设备、介质及产品,涉及硅基液晶空间光调制技术领域;该方法包括:确定目标偏转角的光栅周期长度;根据光栅周期长度和硅基液晶器件像素电极尺寸,确定单位闪耀周期内像素数目;构建周期性初始等相位差阶梯式相位形貌对应的数学仿真模型;在数学仿真模型上叠加多个离散谐波分量,得到叠加离散谐波分量的阶梯式闪耀光栅形貌;基于衍射级次能量分布,按照设定参数范围对叠加离散谐波分量的阶梯式闪耀光栅形貌进行参数匹配优化,得到优化后的阶梯式闪耀光栅形貌;优化后的阶梯式闪耀光栅形貌用以对硅基液晶器件的入射光进行调制;本申请能够有效提升硅基液晶器件主能级衍射效率,降低其他级次杂散光分量。
技术关键词
相位调制方法 闪耀光栅 硅基液晶器件 阶梯式 仿真模型 谐波 液晶空间光调制技术 数学 波长选择开关 表达式 处理器 计算机程序产品 参数 周期性 杂散光 像素 偏转角
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