摘要
本发明涉及LED芯片技术领域,具体涉及一种高反向电压的大功率LED外延结构及其生长方法。本发明的生长方法通过在高温P型GaN层上生长一层InGaN层作为界面处理层,界面处理层利用In原子的活泼性特性,使InGaN更倾向三维生长,可以用更少的厚度填平V型缺陷,有效的减少漏电通道、提高反向电压等性能。相较于常规采用P型GaN层填平V型缺陷而言,InGaN的厚度较薄,对出光效率和发光效率的影响较小,可在提高反向电压的同时不影响亮度性能。
技术关键词
LED外延结构
P型GaN层
大功率
量子阱发光层
电压
电子阻挡层
U型GaN层
LED芯片技术
活泼性
V型
界面
周期
电流
衬底
亮度
线性
元素
通道
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