等离子体处理设备的控制方法、控制装置及处理设备

本申请公开了一种等离子体处理设备的控制方法、控制装置及处理设备，涉及等离子体处理技术领域，公开了等离子体处理设备的控制方法，所述等离子体处理设备包括电源电路和等离子体发生器，所述电源电路用于为所述等离子体发生器供电，所述的控制方法包括：获取反应腔室中多个位置的第一等离子体浓度；根据第一等离子体浓度和预设等离子体浓度，调节对应的电源电路的输出功率。本申请通过获取反应腔室中多个位置的第一等离子体浓度，并将第一等离子体浓度和预设等离子体浓度进行比对，最后调节对应的电源电路的输出功率，从而实现在等离子体处理过程中，精准调控等离子体能量，能够自适应调整，从而使等离子体的表面处理过程更加稳定可靠。