一种SU-8光刻胶溶胀应力和变形本构模型的构建方法

本发明提供一种SU‑8光刻胶溶胀应力和变形本构模型的构建方法，其特征在于，包括以下步骤：对SU‑8光刻胶在不同应变率和温度条件下进行试验，并记录应力‑应变曲线数据；采用广义Maxwell模型描述SU‑8光刻胶的黏弹性行为；采用非线性最小二乘法拟合广义Maxwell模型参数；搭建神经网络框架，确定损失函数和优化算法；采用遗传算法优化广义Maxwell模型的参数，从而得到SU‑8光刻胶应力应变本构模型。通过本方案获得的本构模型能够较好地表征SU‑8光刻胶热溶胀性及胶层内应力的本构关系，同时采用遗传算法使初始本构模型参数尽可能接近真实解，为预测光固化过程的溶胀应力和变形的高保真仿真计算奠定基础。