一种两面临时键合的晶圆及其加工工艺方法和应用

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一种两面临时键合的晶圆及其加工工艺方法和应用
申请号:CN202410870885
申请日期:2024-07-01
公开号:CN118824959A
公开日期:2024-10-22
类型:发明专利
摘要
本发明提供一种两面临时键合的晶圆及其加工工艺方法和应用。所述两面临时键合的晶圆包括依次层叠设置的第一玻璃基板、第一激光释放层、第一临时键合层、晶圆、第二临时键合层、第二激光释放层和第二玻璃基板。本发明中通过对两面临时键合的晶圆进行设计,通过在晶圆两侧分别设置第一临时键合层和第二临时键合层,为超薄器件晶圆提供足够的机械支撑,保证器件晶圆能够顺利安全地完成后续工艺制程,且解键合的条件适中,实现高良率低破片率,无残留的去除临时键合胶。此外,由于键合工艺良好,键合对翘曲小,不需要环切释放应力,减少了工艺步骤,节省了生产成本。
技术关键词
释放层 玻璃基板 解键合设备 紫外激光器 清洗剂 晶圆 低转速 高转速 机械支撑 涂覆 后续工艺 无残留 层叠 匀胶 波长 芯片 制程 布线 抛光
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