摘要
本发明提供一种两面临时键合的晶圆及其加工工艺方法和应用。所述两面临时键合的晶圆包括依次层叠设置的第一玻璃基板、第一激光释放层、第一临时键合层、晶圆、第二临时键合层、第二激光释放层和第二玻璃基板。本发明中通过对两面临时键合的晶圆进行设计,通过在晶圆两侧分别设置第一临时键合层和第二临时键合层,为超薄器件晶圆提供足够的机械支撑,保证器件晶圆能够顺利安全地完成后续工艺制程,且解键合的条件适中,实现高良率低破片率,无残留的去除临时键合胶。此外,由于键合工艺良好,键合对翘曲小,不需要环切释放应力,减少了工艺步骤,节省了生产成本。
技术关键词
释放层
玻璃基板
解键合设备
紫外激光器
清洗剂
晶圆
低转速
高转速
机械支撑
涂覆
后续工艺
无残留
层叠
匀胶
波长
芯片
制程
布线
抛光