一种简化互联结构重布线的工艺方法

AITNT
正文
推荐专利
一种简化互联结构重布线的工艺方法
申请号:CN202410893007
申请日期:2024-07-04
公开号:CN118824875B
公开日期:2025-12-26
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种简化互联结构重布线的工艺方法,包括以下步骤:步骤一:在芯片上制备金属层;步骤二:将多个步骤一所得芯片包覆形成一个整体;步骤三:在步骤二所得半成品表面增设绝缘层Ⅰ;步骤四:在绝缘层Ⅰ表面形成导电层;步骤五:在导电层表面形成第一层RDL图形;步骤六:形成RDL图形层;步骤七:在RDL图形层表面形成绝缘层Ⅱ;步骤八:使芯片pad和/或RDL图形层裸露;步骤九:在步骤八的基础上,进行RDL增层工序,形成重布线层,通过一次性穿透多个金属层来实现各RDL层之间的导通。本发明通过一次性穿透多个金属层来实现各RDL层之间的导通,实现与各芯片互联,实现多层RDL布线,可有效的降低工艺成本。
技术关键词
导电层 重布线层 芯片 种子层 曝光显影方式 光刻胶膜 半成品 基础 电镀 绝缘
添加客服微信openai178,进AITNT官方交流群
驱动智慧未来:提供一站式AI转型解决方案
沪ICP备2023015588号