摘要
本发明公开了一种简化互联结构重布线的工艺方法,包括以下步骤:步骤一:在芯片上制备金属层;步骤二:将多个步骤一所得芯片包覆形成一个整体;步骤三:在步骤二所得半成品表面增设绝缘层Ⅰ;步骤四:在绝缘层Ⅰ表面形成导电层;步骤五:在导电层表面形成第一层RDL图形;步骤六:形成RDL图形层;步骤七:在RDL图形层表面形成绝缘层Ⅱ;步骤八:使芯片pad和/或RDL图形层裸露;步骤九:在步骤八的基础上,进行RDL增层工序,形成重布线层,通过一次性穿透多个金属层来实现各RDL层之间的导通。本发明通过一次性穿透多个金属层来实现各RDL层之间的导通,实现与各芯片互联,实现多层RDL布线,可有效的降低工艺成本。
技术关键词
导电层
重布线层
芯片
种子层
曝光显影方式
光刻胶膜
半成品
基础
电镀
绝缘