浮栅型存储器TCAD仿真模型的校准方法、设备及存储介质

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浮栅型存储器TCAD仿真模型的校准方法、设备及存储介质
申请号:CN202410901531
申请日期:2024-07-05
公开号:CN118862788B
公开日期:2025-06-24
类型:发明专利
摘要
本发明公开浮栅型存储器TCAD仿真模型的校准方法、设备及存储介质。对浮栅型存储器搭建实际浮栅型存储器和对应TCAD仿真模型;然后对仿真模型进行校准;通过在浮栅型存储器的控制栅和浮栅之间增加电容,微调控制栅和浮栅的电容耦合比,校准器件在编程、擦除过程中氧化层固定电荷参数,校准迁移率模型参数和界面态参数,实现电性测试校准;通过校准Si/SiO2界面态、体氧化物陷阱和近界面氧化物陷阱的分布情况,实现可靠性测试校准。本发明方法显著提高TCAD仿真模型的表达准确率。
技术关键词
浮栅型存储器 仿真模型 界面氧化物 电容耦合比 校准方法 编程 流体力学模型 隧穿模型 校准器 界面陷阱 参数 闪存器件 氧化层 版图 计算机 可读存储介质
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