基于偶次项校正的双曲相位大视场成像衍射透镜设计方法

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基于偶次项校正的双曲相位大视场成像衍射透镜设计方法
申请号:CN202410904783
申请日期:2024-07-08
公开号:CN118818758A
公开日期:2024-10-22
类型:发明专利
摘要
本发明提供一种基于偶次项校正的双曲相位大视场成像衍射透镜设计方法,涉及大视场成像技术领域,该方法包括构建偶次项校正的双曲相位大视场成像衍射透镜的数学模型,衍射透镜的数学模型由基础的双曲相位部分和用于校正轴外像差的偶次多项式部分组成;基于构建的衍射透镜的数学模型,寻找当损失函数最小情况下的偶次多项式系数,对偶次多项式相位分布的系数进行优化;获得偶次多项式校正的衍射透镜的相位分布后,再以衍射透镜的微结构高度作为优化变量进行优化;对一维高度分布进行旋转,得到偶次项校正的双曲相位大视场成像衍射透镜的高度分布。利用该方法可使衍射透镜在0°‑30°范围内都能够保持相对一致的焦斑分布,且降低边缘结构的加工难度。
技术关键词
衍射透镜 大视场 数学模型 微结构 多项式 计算机软件产品 计算机存储介质 总线系统 执行存储器存储 设计系统 坐标 校正模块 基础 成像技术 电子设备 变量 遗传算法
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