一种光学芯片衬底及制备方法

本申请公开了一种光学芯片衬底及制备方法，包括功能层、第一氧化层、衬底层和第二氧化层，衬底层包括相互背离的第一表面和第二表面，第一氧化层位于功能层和第一表面之间，第二氧化层位于第二表面上；第一氧化层包括至少一层第一氧化薄膜，第一氧化薄膜是通过形成第一硅薄膜并热氧化后得到的；第二氧化层包括至少一层第二氧化薄膜，在形成第一氧化层的过程中，第二氧化薄膜是通过形成第二硅薄膜并热氧化后得到的。本申请的第二氧化层能够有效补偿第一氧化层和衬底层间的热应力，在加快第一氧化层和第二氧化层整体制备效率的同时，大大提升应力平衡性，有利于提升各层结构及光学芯片衬底整体的制备良率和最终光学芯片衬底的形貌精度。