一种用于混合键合微区应力表征的方法

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一种用于混合键合微区应力表征的方法
申请号:CN202410945124
申请日期:2024-07-15
公开号:CN118969653A
公开日期:2024-11-15
类型:发明专利
摘要
本申请提供一种用于混合键合微区应力表征的方法。该方法包括:提供两个基础芯片;分别在两个所述基础芯片的键合面上形成图形化的介质层,得到介质结构;在所述介质结构中形成含有应力表征物的金属结构,得到两个目标基础芯片;将两个所述目标基础芯片进行混合键合形成混合键合结构,观察该混合键合结构中应力表征物的形变;根据所述应力表征物的形变得到混合键合微区的应力。本申请中,在制作混合键合结构时将应力表征物制作在了其中,在两基础芯片混合键合后,可以通过应力表征物的形变来定量表征混合键合微区的应力,从而解决了混合键合微区应力难以准确定量表征的问题,可以实现混合键合微区应力变化的检测。
技术关键词
混合键合结构 应力 金属结构 介质 小球 聚苯乙烯聚合物 芯片 金属电镀液 基础 纳米 凹槽 二氧化硅 氮化硅 长方形 记忆
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