集成电路的版图设计方法、装置、设备和介质

本发明实施例提供了一种集成电路的版图设计方法、装置、设备和存储介质，本发明可以通过在数据库中查询用户选择的工艺类型对应的初始保护环掩膜层间距，再预设算法对初始保护环掩膜层间距进行优化，从而根据优化后的保护环掩膜层间距生成集成电路的版图；本发明通过使用预设数据库来确定保护环掩膜层间距，由于预先在数据库中保存了不同工艺类型对应的保护环掩膜层间距，可以确保不同设计项目和不同设计师之间的一致性，减少因个人经验差异导致的设计偏差；本发明通过预设算法对初始保护环掩膜层间距进行优化，可以确保保护环的设计更加精确地满足电气性能要求。