摘要
本发明涉及深紫外LED芯片及其制备方法、封装结构及其封装方法,属于深紫外LED技术领域。包括外延片、N电极、P电极、两个连接电极层、钝化层、N焊盘电极、P焊盘电极、焊接层和反射层;外延片包括衬底和外延层。通过设置焊接层,将焊接层设置在衬底的正面并位于外延层的外周,在封装深紫外LED芯片时,焊接层直接与封装结构焊接即可实现对外延层封装,无需通过围坝支架、透镜和硅胶等有机材料进行封装,解决了透镜脱落的风险和深紫外LED芯片出光有遮挡的现象,还实现了对外延层的高密封性的全无机封装;通过设置反射层,将反射层设置在衬底和焊接层之间,提高了深紫外LED芯片的反射效果,从而提高深紫外LED芯片的出光效率。
技术关键词
深紫外LED芯片
电极
P型GaN帽层
正面
封装结构
衬底
外延片
缓冲层
深紫外LED技术
封装方法
金锡合金
金属材料
光刻
封装基板
布拉格反射层
合金材料
叠加结构
透镜
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