深紫外LED芯片及其制备方法、封装结构及其封装方法

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深紫外LED芯片及其制备方法、封装结构及其封装方法
申请号:CN202410956136
申请日期:2024-07-17
公开号:CN118507631A
公开日期:2024-08-16
类型:发明专利
摘要
本发明涉及深紫外LED芯片及其制备方法、封装结构及其封装方法,属于深紫外LED技术领域。包括外延片、N电极、P电极、两个连接电极层、钝化层、N焊盘电极、P焊盘电极、焊接层和反射层;外延片包括衬底和外延层。通过设置焊接层,将焊接层设置在衬底的正面并位于外延层的外周,在封装深紫外LED芯片时,焊接层直接与封装结构焊接即可实现对外延层封装,无需通过围坝支架、透镜和硅胶等有机材料进行封装,解决了透镜脱落的风险和深紫外LED芯片出光有遮挡的现象,还实现了对外延层的高密封性的全无机封装;通过设置反射层,将反射层设置在衬底和焊接层之间,提高了深紫外LED芯片的反射效果,从而提高深紫外LED芯片的出光效率。
技术关键词
深紫外LED芯片 电极 P型GaN帽层 正面 封装结构 衬底 外延片 缓冲层 深紫外LED技术 封装方法 金锡合金 金属材料 光刻 封装基板 布拉格反射层 合金材料 叠加结构 透镜
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