摘要
本发明提供了曝光装置、曝光方法、物品制造方法。曝光装置使用具有掩模版、薄膜框以及薄膜的掩模版组件来将基板进行曝光。曝光装置具备:测量器,其对所述薄膜框相对于所述掩模版的相对位置进行测量;搬送机器人,其以所述薄膜框位于所述掩模版下的状态搬送所述掩模版组件;以及控制器,其基于由所述测量器测量出的所述相对位置来校正所述搬送机器人对所述掩模版组件的搬送目标位置。
技术关键词
掩模版组件
曝光装置
搬送机器人
曝光方法
测量器
载置台机构
支承机构
基板载置台
投影光学系统
存储装置
校正
薄膜
光刻工序
控制器
检查装置
图案
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