一种基于二维面形高度误差的确定性同步修形加工方法

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一种基于二维面形高度误差的确定性同步修形加工方法
申请号:CN202410975111
申请日期:2024-07-19
公开号:CN119026322B
公开日期:2025-10-28
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种基于二维面形高度误差的确定性同步修形加工方法,包括将高度误差矩阵转换为子午方向斜率误差矩阵和弧矢方向斜率误差矩阵,将高度去除函数矩阵转换为子午方向斜率去除函数矩阵和弧矢方向斜率去除函数矩阵,代入下待加工光学元件的多维误差的驻留时间解算模型并解算出驻留时间矩阵,将驻留时间矩阵按照光学元件二维面形排列成二维驻留时间,并利用二维驻留时间对待加工光学元件进行多维误差的确定性修形。本发明将光学元件的多维误差结合起来解算驻留时间,能够实现对高度误差与二维斜率误差进行同步修正,有利于提高加工过程的确定性和提高多维误差的修正效果。
技术关键词
斜率误差 光学元件 误差矩阵 微处理器 可读存储介质 计算机程序产品 编程 指令 方程 线性 关系 存储器 数据 算法
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