一种曲面抛光轨迹均匀覆盖方法、装置及可读存储介质

本发明属于抛光轨迹规划技术领域，涉及一种曲面抛光轨迹均匀覆盖方法、装置及可读存储介质：将待加工曲面的I圈平面抛光轨迹映射至网格模型，得到I圈曲面轨迹；在第1圈曲面轨迹中选取基准点，对第1圈曲面轨迹中每个轨迹点进行调整，直到每个轨迹点与基准点之间的欧式距离等于目标距离，得到第1条抛光轨迹；初始化i＝2；对于第i圈曲面轨迹中每个轨迹点，在第i‑1条抛光轨迹中选取相应基准点，并对各个轨迹点进行调整，直到第i圈曲面轨迹中每个轨迹点与其相应的基准点之间的欧式距离等于目标距离，得到第i条抛光轨迹；更新i＝i+1，并对第i圈曲面轨迹中的轨迹点进行调整，直到i＝I，得到目标抛光轨迹。