一种基于超像素约束的神经辐射场渲染方法

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一种基于超像素约束的神经辐射场渲染方法
申请号:CN202410985700
申请日期:2024-07-22
公开号:CN118967912A
公开日期:2024-11-15
类型:发明专利
摘要
本发明提出了一种基于超像素纹理一致性约束的神经辐射场方法,属于计算机视觉技术领域。本发明利用超像素中的一组像素的灰度相似这一先验信息,相邻且相似的像素可以被作为一个整体进行约束与优化,以增强它们之间的关联性,通过对纹理的约束实现对场景几何的约束。此外,本发明对于卫星影像数据,由有理多项式系数(RPC)函数表示的卫星相机模型,通过阴影感知辐照度模型对卫星遥感影像中存在的阴影变化进行建模,运用不确定性加权方法消除瞬态物体的存在带来的影响,实现基于卫星遥感影像的三维重建。本发明旨在实现利用超像素来建立空间一致性约束,实现大型场景3D几何形状以及外观的精确提取。
技术关键词
像素 渲染方法 相机模型 卫星遥感影像 多分辨率 颜色 卫星影像数据 优化神经网络 二维图像数据 计算机视觉技术 纹理 加权方法 场景 多项式 数字影像 分割算法 表达式 传播算法 因子
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