一种通过沉积法在铝基板表面制作提高导热性薄膜的方法

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一种通过沉积法在铝基板表面制作提高导热性薄膜的方法
申请号:CN202411020233
申请日期:2024-07-29
公开号:CN119121152A
公开日期:2024-12-13
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种通过沉积法在铝基板表面制作提高导热性薄膜的方法,在所述方法中所述沉积法选择直流磁控反应溅射方法。本发明采用直流磁控反应溅射方法,通过溅射方法中的参数的控制实现沉积一层高导热性的氮化铝薄膜。通过速率影响因子和表面形态影响因子,实现对薄膜生成速率的控制,以及实现对表面形态的控制。通过检测氮化铝薄膜的厚度和表明形态,实现选择适用于高质量要求的铝基板。通过多源数据融合的方式实现对氮化铝薄膜的电性能的监测,实现对直流磁控反应溅射方法的改进。
技术关键词
氮化铝薄膜 基板表面制作 反应溅射方法 因子 形态 基材表面抛光 速率 铝基板 气体流量计 氮气 功率 粗糙度 气压 图像分割 铝板 数据
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