摘要
本申请公开一种半导体器件及其制造方法,涉及半导体技术领域,以解决现有半导体器件的散热能力差的问题。半导体器件包括:半导体结构,半导体结构包括第一基底、以及设置在第一基底上的芯片;第一键合层,设置在第一基底背离芯片的一侧;第一键合层包括沿平行于第一基底表面方向交替分布的第一导热材料部和第一粘合材料部;第二基底,第二基底的热导率大于第一基底;第二基底具有键合面;以及第二键合层,设置在第二基底具有的键合面,第二基底和半导体结构分别通过第二键合层和第一键合层键合在一起。半导体器件的制造方法用于制造上述技术方案所提的半导体器件。本申请提供的半导体器件及其制造方法用于提高半导体器件经由第二基底的散热能力。
技术关键词
半导体结构
半导体器件
基底
导热
芯片
掩膜
刻蚀工艺
溶液
电镀
光刻胶
金刚石
碳化硅
真空度
丁烯
压力
系统为您推荐了相关专利信息
预测自发性早产
特异性生物标志物
靶向代谢组学
早产预测
生物医药技术
Boost升压芯片
电容充电系统
驱动芯片
充电控制模块
电压采集模块
均衡芯片
电池主动均衡方法
电池主动均衡电路
电池组
主控单元
光电转换单元
差分放大器
采集系统
电阻
射极跟随器