具有有差别的纳米线厚度和栅极氧化物厚度的全环栅集成电路结构

AITNT
正文
推荐专利
具有有差别的纳米线厚度和栅极氧化物厚度的全环栅集成电路结构
申请号:CN202411075534
申请日期:2024-08-07
公开号:CN119630056A
公开日期:2025-03-14
类型:发明专利
摘要
描述了具有有差别的纳米线厚度和栅极氧化物厚度的全环栅集成电路结构,以及制造具有有差别的纳米线厚度和栅极氧化物厚度的全环栅集成电路结构的方法。例如,集成电路结构包括具有外部厚度和内部厚度的纳米线,内部厚度小于外部厚度。纳米线从具有外部厚度的外部区域到具有内部厚度的内部区域逐渐变细。电介质材料在纳米线上并围绕纳米线,使得内部区域中的纳米线和电介质材料的组合厚度与纳米线的外部厚度大致相同。
技术关键词
集成电路结构 纳米线 高k栅极电介质 电介质材料 栅极电极层 通信芯片 集成电路管芯 数字信号处理器 横向间隔开 显示器 相机 存储器 电池
添加客服微信openai178,进AITNT官方交流群
驱动智慧未来:提供一站式AI转型解决方案
沪ICP备2023015588号