一种基于硅基填埋扇出封装的双面器件及制备方法

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一种基于硅基填埋扇出封装的双面器件及制备方法
申请号:CN202411101622
申请日期:2024-08-12
公开号:CN119008581A
公开日期:2024-11-22
类型:发明专利
摘要
本申请提供一种基于硅基填埋扇出封装的双面器件及制备方法,涉及电子制造领域,包括功能区,以及设置在功能区至少一侧的连接区,双面器件包括:晶圆基底,晶圆基底在功能区内设置填埋槽;芯片,芯片设置在填埋槽内,芯片包括相对设置的第一表面和第二表面,第二表面与连接区的晶圆基底表面大致齐平;第一导电图案,第一导电图案设置在第一表面与填埋槽之间,并通过填埋槽的槽壁延伸至连接区;绝缘层,绝缘层设置在芯片背离晶圆基底的一侧,绝缘层内设置有第二导电图案,第二导电图案的一端与第二表面电连接,另一端延伸至连接区。本申请芯片的第二表面与连接区的晶圆基底表面大致齐平,缩短第二导电图案导电通路,提高芯片电性能,降低制造成本。
技术关键词
导电图案 基底 双面 晶圆 芯片 导电结构 中心对称 尺寸 电子
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