考虑垄向的日光温室小气候三维模拟方法及系统

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考虑垄向的日光温室小气候三维模拟方法及系统
申请号:CN202411107238
申请日期:2024-08-13
公开号:CN119180228A
公开日期:2024-12-24
类型:发明专利
摘要
本发明提供一种考虑垄向的日光温室小气候三维模拟方法及系统,该考虑垄向的日光温室小气候三维模拟方法包括:根据日光温室的几何结构参数和作物冠层尺寸构建温室几何模型,几何结构参数结构包括日光温室的尺寸和日光温室中用于作物种植的垄宽、垄长和垄间距;根据温室几何模型的内外环境因素和内外几何结构各自的时空分布特性进行仿真模拟,得到温室环境的三维模型;其中,内外环境因素包括温室几何模型外部空间和内部空间分别对应的光照强度、湿度、温度、空气流速和流向。本发明所述方法提高了温室小气候环境模拟准确率,进而提高了对温室内栽培模式下的作物生长状态的效率。
技术关键词
三维模拟方法 日光温室 作物冠层 水蒸气 空气动力学阻力 稳态平衡模型 叶片 三维模型 发射率 方程 湍流模型 三维模拟系统 非暂态计算机可读存储介质 参数 绘图软件 动能 温室小气候
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