一种高深宽比微流控通道的高效激光制备方法及微流控设备

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一种高深宽比微流控通道的高效激光制备方法及微流控设备
申请号:CN202411108515
申请日期:2024-08-13
公开号:CN118847239A
公开日期:2024-10-29
类型:发明专利
摘要
本发明提供一种高深宽比微流控通道的高效激光制备方法,本方法利用ps激光和多次对焦扫描法在树脂材料上进行高深宽比通道制备,每次激光扫描烧蚀材料后,重新测量通道深度并向下对焦,使激光束在下次扫描时依然聚焦于材料表面附近,而不是离焦状态,保证了每次激光烧蚀后通道截面呈U形。重复多次激光扫描过程,在保证低通道宽度的前提下,制备更大的通道深度和深宽比的微通道。本发明可以高效制备截面形状为U形的高深宽比微通道,相较于其他激光烧蚀的V形通道,U形通道更有利于提升微混合器和微流道散热器等微流控设备的工作效率,同时有助于减小通道长度和工作单元的体积,有利于微流控芯片及设备的小型化和低能耗。
技术关键词
微流控通道 高深宽比 激光烧蚀 着色树脂 激光脉冲宽度 微流控设备 微混合器 微流控芯片 激光系统 树脂材料 焦点 激光束 散热器 黑色 密度 精度
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