一种碲镉汞红外探测器及其制备方法

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正文
推荐专利
一种碲镉汞红外探测器及其制备方法
申请号:CN202411125277
申请日期:2024-08-16
公开号:CN118676261B
公开日期:2025-03-28
类型:发明专利
摘要
本申请涉及红外探测器芯片制备领域,公开了一种碲镉汞红外探测器及其制备方法,包括准备经过离子注入的、表面分布有复合钝化层的碲镉汞晶片;复合钝化层包括层叠的第一钝化层和第二钝化层;去除第二钝化层;在处理后碲镉汞晶片的表面制作图形化光刻胶;在再处理碲镉汞晶片的表面制作新的第二钝化层;去除图形化光刻胶,在新的第二钝化层中形成通孔;刻蚀位于通孔下方的第一钝化层和碲镉汞晶片,形成接触孔;制作电极,得到碲镉汞红外探测器。新的第二钝化层没有被离子注入工艺损伤,可以提升器件性能;采用剥离光刻胶的方式在新的第二钝化层中形成通孔,避免了刻蚀第二钝化层引起的接触孔深度均匀性变差的问题,同时有利于实现低损伤刻蚀工艺。
技术关键词
碲镉汞红外探测器 图形化光刻胶 复合钝化层 接触孔 离子注入工艺 红外探测器芯片 硫化锌 电感耦合等离子体 离子束 磁控溅射方式 剥离光刻胶 通孔 电极 碲化镉层 光刻胶图形 刻蚀方式 刻蚀工艺 掩膜
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