一种反极性850nm红外发光LED芯片及其制作方法

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正文
推荐专利
一种反极性850nm红外发光LED芯片及其制作方法
申请号:CN202411133795
申请日期:2024-08-19
公开号:CN118658941B
公开日期:2024-11-22
类型:发明专利
摘要
本发明涉及LED技术领域,具体涉及一种反极性850nm红外发光LED芯片及其制作方法。所述芯片包括从下至上依次设置的背面电极、硅衬底、第一键合层、第二键合层、镜面层、介质膜层、银纳米线电流扩展层、保护层、DBR反射层、功能层和环状接触电极,介质膜层上设置有导电通孔,导电通孔位于出光孔正下方;镜面层靠近介质膜层一侧的表面具有一凸台,凸台形状与导电通孔形状相套合,凸台完全嵌入至导电通孔中;凸台上表面采用平面结构,凸台上表面与介质膜层上表面齐平,且凸台上表面与银纳米线电流扩展层下表面直接接触。本申请所提供的反极性850nm红外发光LED芯片,在发光强度的提升同时具有良好的电流扩展和可靠性能。
技术关键词
发光LED芯片 银纳米线 接触电极 掩膜图形 电流扩展层 镜面 背面电极 负性光刻胶 正性光刻胶 介质 导电 外延结构 正面 环状 金属蚀刻液 GaAs衬底 光学镀膜机
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