摘要
本发明涉及LED技术领域,具体涉及一种反极性850nm红外发光LED芯片及其制作方法。所述芯片包括从下至上依次设置的背面电极、硅衬底、第一键合层、第二键合层、镜面层、介质膜层、银纳米线电流扩展层、保护层、DBR反射层、功能层和环状接触电极,介质膜层上设置有导电通孔,导电通孔位于出光孔正下方;镜面层靠近介质膜层一侧的表面具有一凸台,凸台形状与导电通孔形状相套合,凸台完全嵌入至导电通孔中;凸台上表面采用平面结构,凸台上表面与介质膜层上表面齐平,且凸台上表面与银纳米线电流扩展层下表面直接接触。本申请所提供的反极性850nm红外发光LED芯片,在发光强度的提升同时具有良好的电流扩展和可靠性能。
技术关键词
发光LED芯片
银纳米线
接触电极
掩膜图形
电流扩展层
镜面
背面电极
负性光刻胶
正性光刻胶
介质
导电
外延结构
正面
环状
金属蚀刻液
GaAs衬底
光学镀膜机