一种高性能W波段应用的改进扇出型晶圆级封装工艺

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推荐专利
一种高性能W波段应用的改进扇出型晶圆级封装工艺
申请号:CN202411370084
申请日期:2024-09-29
公开号:CN119252742B
公开日期:2025-07-18
类型:发明专利
摘要
本发明涉及半导体封装技术领域,具体为一种高性能W波段应用的改进扇出型晶圆级封装工艺,包括以下步骤:形成第一面支撑载板并在其上铺设双面胶膜,为后续芯片固定提供支撑;在芯片区域与介质区域之间形成空腔,并在需要的位置形成电镀区域,以防止空气桥结构塌陷;通过倒装贴片将芯片固定在支撑载板上;使用压膜技术固定芯片,确保芯片在后续工艺中的稳定性;通过在芯片区域与介质区域之间形成空腔,防止空气桥结构塌陷,提高结构稳定性,防止晶体管本征性能恶化:通过在有源区表面不附着介质,防止晶体管本征性能恶化,确保器件性能稳定,提高电热性能:通过玻璃穿孔技术实现封装上下的电气连接,提高电热性能。
技术关键词
扇出型晶圆级封装 空气桥结构 压膜技术 倒装贴片 双面胶膜 介质 电镀 封装芯片 高性能 穿孔技术 后续工艺 半导体封装技术 中介层 光刻 玻璃 空腔 保护芯片 倒装芯片
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