一种用于近红外一区荧光成像的自动曝光方法

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一种用于近红外一区荧光成像的自动曝光方法
申请号:CN202411383898
申请日期:2024-09-30
公开号:CN119273660A
公开日期:2025-01-07
类型:发明专利
摘要
本发明提供一种用于近红外一区荧光成像的自动曝光方法,该方法包括使用不同的曝光等级对激发出近红外一区射线的吲哚箐绿样本进行成像,获取一系列在不同曝光条件下的荧光图像数据,其中,每个曝光等级由特定的增益和快门速度组合确定;建立灰阶与荧光图像曝光水平之间的映射关系;基于已建立的映射关系,预测出当前荧光图像在任意曝光等级下的表现;根据预测结果,选择在当前条件下能够产生最佳图像质量的曝光等级作为最优曝光等级。本发明针对性地构建荧光成像自动曝光方法,能够在进行近红外一区荧光分子影像手术导航的过程中,对曝光环境的变化进行实时响应,进行正确的荧光成像曝光。
技术关键词
自动曝光方法 快门 荧光 灰阶 分子影像手术 图像 成像 构建数学模型 分布直方图 机器学习模型 关系 照片 反馈系统 像素点 吲哚 射线 数据 方程 样本
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