结合深度计算的额头位置校正方法、装置、设备及介质

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结合深度计算的额头位置校正方法、装置、设备及介质
申请号:CN202411437087
申请日期:2024-07-03
公开号:CN119445626A
公开日期:2025-02-14
类型:发明专利
摘要
本发明涉及智能看护技术领域,解决了现有技术中无法对额头位置进行准确地校正处理,额头区域的跟踪误差大的问题,提供了一种结合深度计算的额头位置校正方法、装置、设备及介质。该方法包括:对实时图像进行人脸检测和人脸跟踪,通过鼻子和嘴部关键点位置信息,确定参考点位置信息;依据所述鼻子和嘴部关键点深度信息,确定参考点深度信息;依据第一图像中的第一参考点位置信息和第一参考点深度信息,结合第二图像中的第二参考点位置信息和第二参考点深度信息,确定参考点的位移量和深度变化量;依据所述位移量和所述深度变化量,对人脸状态进行判定,当判定人脸发生形变时,进行校正,确定目标额头位置信息。本发明降低了额头区域定位误差。
技术关键词
位置校正方法 实时图像 人脸关键点 计算机程序指令 智能看护技术 位置校正装置 人脸检测模型 比率 处理器 场景 模块 存储器 序列 误差 电子设备
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