基于3D Gaussian Splatting技术的寄生参数提取方法

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基于3D Gaussian Splatting技术的寄生参数提取方法
申请号:CN202411449911
申请日期:2024-10-17
公开号:CN119312762A
公开日期:2025-01-14
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种基于3D Gaussian Splatting技术的寄生参数提取方法;该方法包括:步骤1:随机生成3D电路图案;步骤2:使用电磁场求解软件求解空间的电磁场分布;步骤3:利用所求解的电磁场分布训练辐射场的空间特征;步骤4:使用3D高斯泼溅技术进行寄生参数提取;步骤5:通过可微的光栅化进行GPU的并行处理,进行Loss的比对迭代;步骤6:进行结果分析与应用,以获得高精度的技术参数。本发明方法能巧妙利用3D高斯泼溅技术的特性,减少空白空间不必要的计算,提高寄生参数提取的精度,提升求解速度,缩短设计周期;能够适应各种不同的电路布局,具有良好的通用性。
技术关键词
寄生参数提取方法 协方差矩阵 设计规则检查 定义集成电路 生成稀疏点云 集成电路布局 缩短设计周期 边界元方法 更新模型参数 球谐函数 图案结构 布局结构
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