版图缺陷修正的方法及系统、掩膜版

本发明提供了一种版图缺陷修正的方法及系统、掩膜版，属于半导体领域。该版图缺陷修正的方法包括提供一版图。筛选出同时存在于第一区域和第二区域的目标图形。基于所述密集图形和孤立图形，获取所述目标图形的过渡区域。对与目标图形相邻的两个图形的线端，沿与目标图形平行的方向做延伸处理，形成延伸图形，以将过渡区域的图形从孤立图形转换为密集图形。本发明通过筛选出目标图形中易出现缺陷的过渡区域，通过对目标图形相邻两个图形做延伸处理，从而能够将过渡区域的孤立图形转换为密集图形，从而，能够增加目标图形的工艺窗口，能够避免金属层出现电流无法顺利传输的问题，提高芯片的良率。