套刻精度量测标记及其使用方法与器件

AITNT
正文
推荐专利
套刻精度量测标记及其使用方法与器件
申请号:CN202411460262
申请日期:2024-10-18
公开号:CN119108381B
公开日期:2025-09-23
类型:发明专利
摘要
本申请属于半导体器件技术领域,具体公开了一种套刻精度量测标记及其使用方法与器件。该套刻精度量测标记在芯片边缘区域采用DBO标记及IBO标记方式,有利于减少套刻精度量测标记中使用的Scribe Line面积,并且提高Scribe Line区域内进行套刻精度量测的准确度。
技术关键词
光栅 图像 套刻精度 基底 半导体器件技术 光刻曝光 标记方式 芯片 间距 尺寸
添加客服微信openai178,进AITNT官方交流群
驱动智慧未来:提供一站式AI转型解决方案
沪ICP备2023015588号