一种基于riscv的超导处理器微架构构建方法

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正文
推荐专利
一种基于riscv的超导处理器微架构构建方法
申请号:CN202411465667
申请日期:2024-10-18
公开号:CN119416711A
公开日期:2025-02-11
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种基于RISC‑V的超导处理器微架构构建方法,旨在实现超低温环境下处理器的高效运行与性能优化。该方法包括以下步骤:首先,基于RISC‑V指令集设计处理器的功能模块和流水线,并预设初始参数;接下来,通过仿真工具和多目标优化算法选择并优化微架构参数,确保性能、功耗与芯片面积之间的平衡;然后,设计并集成低温冷却系统,确保处理器在2至4开尔文的超低温环境中稳定运行;通过仿真和实际测试验证处理器的功能正确性和性能效率;最后,使用超导材料制造关键组件,并将处理器与冷却系统一体封装。结合精细化性能优化和综合性能评估算法,本发明能够显著提升处理器在复杂环境下的性能与能效。
技术关键词
处理器微架构 低温冷却系统 参数校准 超导Josephson结 验证处理器 超导材料 功能模块 超低温环境 流水线 综合性 决策算法 仿真工具 冷却系统效率 内存管理单元 指令
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