一种光学关键尺寸量测设备的光谱匹配方法及其应用于的设备

本发明涉及半导体芯片制造量测设备技术领域，提出一种光学关键尺寸量测设备的光谱匹配方法及其应用于的设备。该方法包括：提供用于光学关键尺寸量测的二维和三维的样品；在黄金机台上采集样品的黄金机台光谱信号，并且将黄金机台光谱信号转化为光谱图像后进行高阶量化；在匹配机台上采集样品的匹配机台光谱信号，并且将匹配机台光谱信号转化为光谱图像后进行高阶量化；以及使用预处理回归算法调整匹配机台的系统参数，以使匹配机台高阶量化光谱图像与黄金机台高阶量化光谱图像相匹配。本发明以高阶量化光谱图像作为匹配目标，通过预处理回归算法寻找系统参数全局最优值，大大提升了光学关键尺寸量测设备的匹配效率和匹配精度。