间隙测量控制系统、间隙测量系统、标定方法及测量方法

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推荐专利
间隙测量控制系统、间隙测量系统、标定方法及测量方法
申请号:CN202411488878
申请日期:2024-10-24
公开号:CN119268576A
公开日期:2025-01-07
类型:发明专利
摘要
本公开提供了一种间隙测量控制系统、间隙测量系统、标定方法及测量方法,间隙测量控制系统包括:光谱矫正模块,被配置为基于预先获得的背景光谱和参考光谱,计算干涉光谱反射率,对干涉光谱反射率进行归一化处理;参数优化模块,被配置为基于归一化处理后的干涉光谱反射率对图案形成装置的反射膜层厚度和介电常数进行优化,得到优化后的反射膜层厚度和优化后的介电常数;光程差解析模块,被配置为基于优化后的反射膜层厚度和优化后的介电常数仿真得到仿真干涉光谱,基于仿真干涉光谱对获取的待测样品对应的干涉光谱进行光程差计算,获取间隙测量数据。
技术关键词
反射率 反射膜层 控制系统 矫正 粒子群算法 训练机器学习模型 空气 光程 光谱仪 图案 分析方法 标定方法 间隙测量方法 承片台 模块 工件台 模型库
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