半导体装置
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半导体装置
申请号:
CN202411490531
申请日期:
2024-10-24
公开号:
CN119922950A
公开日期:
2025-05-02
类型:
发明专利
摘要
本申请提供一种半导体装置。该半导体装置包括一个由n型或p型的其中一种碳化硅形成的漏极层,以及一个形成在所述漏极层上的由n型或p型的其中一种碳化硅形成的漂移层。在芯片的终端结构中,所述漂移层的侧壁部向内弯曲或倾斜,在所述侧壁部中,至少上部呈倒锥形状。该终端结构中,如此,使得该半导体装置可以不使工艺复杂化的情况下,能够确保耐压并实现小型化。
技术关键词
半导体装置
终端结构
碳化硅
绝缘
弯曲
耐压
强度
芯片
沪ICP备2023015588号