半导体装置

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推荐专利
半导体装置
申请号:CN202411490531
申请日期:2024-10-24
公开号:CN119922950A
公开日期:2025-05-02
类型:发明专利
摘要
本申请提供一种半导体装置。该半导体装置包括一个由n型或p型的其中一种碳化硅形成的漏极层,以及一个形成在所述漏极层上的由n型或p型的其中一种碳化硅形成的漂移层。在芯片的终端结构中,所述漂移层的侧壁部向内弯曲或倾斜,在所述侧壁部中,至少上部呈倒锥形状。该终端结构中,如此,使得该半导体装置可以不使工艺复杂化的情况下,能够确保耐压并实现小型化。
技术关键词
半导体装置 终端结构 碳化硅 绝缘 弯曲 耐压 强度 芯片
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