一种基于注意力机制的电子元器件表面缺陷分析系统

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推荐专利
一种基于注意力机制的电子元器件表面缺陷分析系统
申请号:CN202411493118
申请日期:2024-10-24
公开号:CN119444696A
公开日期:2025-02-14
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种基于注意力机制的电子元器件表面缺陷分析系统,包括图像采集模块、数据处理模块、注意力机制模块、表面缺陷分析模块、系统维护与反馈更新模块、报告生成与用户接口模块,图像采集模块用于采集器件表面图像数据,数据处理模块用于对采集图像预处理操作,注意力机制模块用于突出图像中关键区域特征,表面缺陷分析模块用于检测并分析器件缺陷,系统维护与反馈更新模块用于系统维护和更新,报告生成与用户接口模块用于生成检测报告并提供交互界面,本发明一种基于注意力机制的电子元器件表面缺陷分析系统,提出基于注意力机制的关键缺陷集中算法提取关键图像缺陷,提出基于傅里叶变换的表面缺陷分析算法对器件表面缺陷进行检测分析。
技术关键词
电子元器件表面 缺陷分析系统 注意力机制 数据处理模块 图像采集模块 特征提取单元 形状特征信息 接口模块 K均值聚类算法 表面图像数据 特征金字塔网络结构 定位单元 报告
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