砷化镓芯片激光加工装置及其方法

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砷化镓芯片激光加工装置及其方法
申请号:CN202411499977
申请日期:2024-10-25
公开号:CN119141021A
公开日期:2024-12-17
类型:发明专利
摘要
本发明涉及砷化镓芯片激光加工装置及方法,激光器输出端依次布置有扩束镜和空间光调制器,空间光调制器的输出端依次设置有第一透镜、第一反射镜和第二透镜,第二透镜的输出光路上布置有第二反射镜,第二反射镜的反射光路上布置加工物镜,加工物镜正对于运动平台上的砷化镓芯片;激光器输出的光束经过扩束镜将光斑放大并准直,覆盖空间光调制器的有效窗口,空间光调制器加载像差校正全息相位图,继而依次经过第一透镜、第一反射镜、第二透镜、第二反射镜,第一反射镜和第二反射镜用以改变光路传输方向,第一透镜和第二透镜构成4f系统进行像传递至加工物镜入光口,输出的激光在砷化镓芯片内部形成聚焦光斑进行加工,提高切割效率和切割品质。
技术关键词
砷化镓芯片 空间光调制器 反射镜 透镜 激光器 物镜 校正 运动平台 光斑 砷化镓材料 输出光 反射光 波长 连续可调 输出端 扩束镜 光束 脉冲 像素
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