一种红光VCSEL芯片及其制作方法

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一种红光VCSEL芯片及其制作方法
申请号:CN202411506031
申请日期:2024-10-28
公开号:CN119050809B
公开日期:2025-02-07
类型:发明专利
摘要
本发明涉及LED技术领域,具体涉及一种红光VCSEL芯片及其制作方法。红光VCSEL芯片,包括从下至上依次设置的GaAs衬底、GaAs过渡层、底部反射镜、N型半导体层、多量子阱有源层、P型半导体层、GaP窗口层、透明导电层、监测层和顶部介质堆栈反射镜;所述GaP窗口层包括依次设置的GaP扩展层和GaP接触层,所述GaP扩展层包括非粗化区和围绕在所述非粗化区外围的粗化区,所述GaP接触层设置于所述非粗化区,且所述GaP接触层至少部分嵌入至所述透明导电层中;所述粗化区与所述透明导电层之间设置有氧化铝隔断层。本申请的结构可以有效提高短波长红光VCSEL转换效率和提高可靠性。
技术关键词
VCSEL芯片 透明导电层 台阶 半导体层 接触层 反射镜 隔断层 清洗晶片 电子束 制作氧化铝 GaAs衬底 CMP抛光 电极组 正性光刻胶
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