基于ADMM的SAR成像低成本优化方法

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基于ADMM的SAR成像低成本优化方法
申请号:CN202411532782
申请日期:2024-10-30
公开号:CN119471612A
公开日期:2025-02-18
类型:发明专利
摘要
本发明公开了基于ADMM的SAR成像低成本优化方法,包括同时考虑两个雷达运动维度以及局部线性特征建立抑制非均匀采样下雷达成像散焦分式优化模型,约束条件包括阵元恒能量约束和阵元峰值权重约束;使用ADMM算法分离非凸约束集,并借助酉变换和辅助变量求解抑制非均匀采样下雷达成像散焦分式优化模型,得到优化后的雷达采样位置及复权重;通过建立分式优化模型降低模型效果对参数调整的依赖;利用局部线性特征建模以及对非凸问题的处理,避免使用启发式算法,确保算法的收敛性能;分离非凸约束集实现在非凸约束下对复杂非凸目标函数的求解,利用矩阵酉变换及矩阵本身的特性迭代更新模型变量值,解决非均匀采样成像过程中的散焦问题且减少采样位置的数量。
技术关键词
ADMM算法 雷达 拉格朗日 低成本 变量 成像算法 矩阵 启发式算法 线性 可读存储介质 处理器 运动 存储器 计算机 电子设备 模块 因子 分子
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