自监督光场三维高分辨率重建方法、系统及介质

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自监督光场三维高分辨率重建方法、系统及介质
申请号:CN202411542854
申请日期:2024-10-31
公开号:CN119444575B
公开日期:2025-10-03
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种自监督光场三维高分辨率重建方法、系统及介质,属于显微成像领域,方法包括:采用光场成像系统和宽场成像系统对样品进行成像,获取样品的低分辨率光场图像以及样品的高分辨率宽场图像;通过模拟映射构建自监督训练样本得到高‑低分辨率的模拟光场训练图像对;以低分辨率模拟光场图像帧为输入,高分辨率模拟光场图像帧为标签,对二维超分辨率网络进行自监督训练;利用训练后的二维超分辨率网络,对第一步得到的样品低分辨率光场图像各个视角的图像帧进行超分辨,输出高分辨率推理光场图像帧,并进行三维重构,得到超分辨的目标样品三维图像。本方法可实现快速实时的光场超分辨三维成像,突破光场成像的轴向分辨率硬件极限。
技术关键词
三维高分辨率 超分辨率网络 光场成像系统 图像 轻量化卷积神经网络 切换装置 视角 计算机可执行程序 反射镜 点扩散函数 重建系统 显微成像 三维成像 处理器 可读存储介质 标签 阶段
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