光源掩膜协同优化IRO模型的确定方法、装置及设备

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光源掩膜协同优化IRO模型的确定方法、装置及设备
申请号:CN202411549219
申请日期:2024-10-31
公开号:CN119472183B
公开日期:2025-10-10
类型:发明专利
摘要
本申请提供了一种光源掩膜协同优化IRO模型的确定方法、装置及设备,通过将预获取的测试图形输入至初始IRO模型中,得到初始设计版图对应的初始光源,测试图形包括初始设计版图中的关键图形;根据初始光源,使用目标光刻胶对测试掩膜版进行光刻,得到实际曝光能量矩阵FEM数据和位于测试掩膜版关键位置处的目标光刻胶的实际截面数据,测试掩膜版根据测试图形确定;根据实际FEM数据和实际截面数据,确定光刻胶模型,对初始IRO模型进行优化,得到目标IRO模型。本申请实施例能够提高IRO模型的优化准确性。
技术关键词
光刻胶模型 仿真工具 版图 计算机程序指令 光源 数据 掩膜图形 计算机程序产品 透射电子显微镜 扫描电子显微镜 电子设备 可读存储介质 物理 处理器 薄膜 矩阵 参数
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