摘要
本申请提供了一种光源掩膜协同优化IRO模型的确定方法、装置及设备,通过将预获取的测试图形输入至初始IRO模型中,得到初始设计版图对应的初始光源,测试图形包括初始设计版图中的关键图形;根据初始光源,使用目标光刻胶对测试掩膜版进行光刻,得到实际曝光能量矩阵FEM数据和位于测试掩膜版关键位置处的目标光刻胶的实际截面数据,测试掩膜版根据测试图形确定;根据实际FEM数据和实际截面数据,确定光刻胶模型,对初始IRO模型进行优化,得到目标IRO模型。本申请实施例能够提高IRO模型的优化准确性。
技术关键词
光刻胶模型
仿真工具
版图
计算机程序指令
光源
数据
掩膜图形
计算机程序产品
透射电子显微镜
扫描电子显微镜
电子设备
可读存储介质
物理
处理器
薄膜
矩阵
参数